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Electrocatalytic Reduction of NO3 in a Neutral Solution on an Electrodeposited Film of Amorphous Pd33Ni60P7 Alloy

zjniu 发表于: 2008-7-28 15:32 来源: 化学吧 - 化学论坛 - 学术论坛

Electrocatalytic Reduction of NO3 in a Neutral Solution on an Electrodeposited Film of Amorphous Pd33Ni60P7 Alloy
   
本文经历了由低到高再到中的过程。原来只是想简单做一下电沉积的Pd-Ni-P合金的性能,也只想发篇中文的,只要第一作者(Lou Ying)能硕士顺利毕业就行。一做发现还有点名堂,亦是写成英文的,由于英文水平不行,几经修改后先投Applied Catalysis B: (IF 4左右),最初提了一些修改意见,修改后原审稿人之一都说可以了,但编辑不知为何又去找了另外两个人,说本文主要是电化学的内容,不适合发展AC  B上,退了。只好投JEC,JEC倒是比较干脆,小修改后可以发表。但所提到几个“小问题”却也让我们花了不少心思。由本文的投稿经历我充分体会到写文章要尽可能把结果定量化并挖掘出新意义来。
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[ 本帖最后由 zjniu 于 2008-7-28 15:34 编辑 ]

最新回复

lfang at 2008-7-28 20:52:47
拜读了一下,我对这个领域不了解,请教两个问题:
1.H3BO3和ethylenediamine的作用是什么?为什么使用H3PO3而不是H3PO4?可能对您是常识,我想不太通。
2.元素的比率只是通过EDX获得的,为什么不能够把镀层溶下来做个ICP呢?EDX得到的数据多不准呀。

图3太小了,如果能够大一些比较好。
第二部分如果放在第一部分之前写,读起来可以更加顺畅一些。
很好的工作值得精耕细作,祝工作顺利。
zjniu at 2008-7-29 09:37:57
1.H3BO3的作用是缓冲界面的pH,因为电沉积过程中有析氢,pH会升高,ethylenediamine(乙二胺)的作用是络合Pd、Ni离子(主要是络合Pd),以改变金属析出的电位,同时提高镀液的稳定性。使用H3PO3是为了在镀层中引入P(用NaH2PO2也行),用H3PO4是不行的。
2.前期也曾把镀层溶解做过ICP分析,但太烦,一是电镀层的量太少,称量误差大,需要多次制样,另外我们用ICP分析要求别人做,很不方便,我们的EDX得到的数据与ICP分析的结果相对误差在10%以内,对电镀层成分分析来说,是可以接受的。

3.图3的太小是由出版编辑确定的。第二部分的内容主要只是用来说明为什么PdNIP比PdNi性能好,内容较少,所以放在电催化性能测试的后面。
谢谢lfang!希望以后能得到您的更多帮助。
祝夏安。
lfang at 2008-7-29 11:15:02
1酸缓冲剂用乙酸可以么?用硼酸不会在层中掺入硼么?
2络合剂用EDTA可以么?

一般刊物对图的确有大小的要求,你可以提供图的时候把白边除掉,这样编辑缩小图的时候不至于字太小。
非常感谢您的解惑。
zjniu at 2008-7-29 15:41:52
1 硼酸是镀镍中普遍使用的缓冲剂,不容易还原掺到镀层里(在有些情况下也许会以硼酸或硼氧化物的形式夹杂在镀层中),我以前参加电沉积Ni-W-B的研究时,用硼酸做硼源都没有成功(尽管有文献报道可以的),只能用二甲基胺硼烷。弱酸溶液用乙酸应该也是可以的,但也可能使镀层夹杂碳。
2 EDTA作络合剂是可以的,但EDTA对Ni、Pd的络合能力都太强,不易控制。

3 以后我们投稿时对图的处理会更仔细。谢谢您的建议。
cc136520 at 2008-8-23 17:51:12
不了解,单纯祝贺
sally208 at 2008-8-26 08:38:43
感谢zjniu老师的分享!希望你们组能发表更多好的工作!
yeqs1 at 2008-8-27 16:32:24
对这方面不懂,祝贺一下!
sulfur at 2008-8-27 22:37:29
感谢分享!
churen at 2008-8-29 06:43:08
nice one
qftian at 2008-9-05 09:26:07
同行,学习一下!
ccx_lov at 2008-9-26 21:11:03
感谢分享!

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